第1182章:一个新的时代,即将来临(1 / 6)

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  “陈总,这台就是我们研发出来的浸润式光刻机。这一台光刻机打破了传统的干式光刻理论,采用湿式以水为媒介,从而让制程大幅度的进行了提升。虽然我们目前的制程水平是在100纳米左右,但我们随时可以进入到65纳米行例。”

  “也就是说,一但我们的浸润式光刻机上马,我们的技术水平将可以和asml比肩。同时,我们也能生产出目前最为顶尖的芯片。”

  中心国际一处秘密研究基地,林本坚兴奋的向陈宇做着介绍。

  “好,很好。”

  看着眼前这一台光刻机,陈宇同样的有些激动。

  前世,国人不知道为这样的一台光刻机奋斗了多久。

  当然。

  这倒不是说前世国人做不出光刻机。

  其实光刻机技术国人是掌握的,但要做出达到全球顶尖制程的光刻机,那就不是那么容易的事了。

  截止到2021年,前世国内最为顶尖的光刻机制程仅仅只达到90纳米。

  但asml已经达到5纳米,3纳米,甚至往2纳米方向进军。

  这是几十倍的差距。

  同样也是几代水平的差距。

  真按这样的差距进行追赶,恐怕得100年。

  幸好。
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