八零之女配重生当学神 第131节(5 / 7)

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  而他们的再一次交锋,也必然不会太久。

  这一次,他无论如何,都不可能再输了。

  第115章 光刻大战

  井熙正在烦恼着, 自己究竟要不要认认真真的,把极紫外光刻机给做出来。

  最开始她下注极紫外光的时候,是真没想到能这么快就出成果, 而纯粹是出于一个研究者的本能——反正项目开都开了, 多试试也没坏处。

  芯片领域有一个很著名的定律叫做摩尔定律, 大概意思是每隔两年, 芯片的性能将增加一倍,单位面积内可以容纳的元器件数量也将翻一倍。

  这也就意味着, 八十年代的芯片,和若干年以后的比……根本就毫无比较的价值。

  虽然若干年后,光刻是芯片行业绝对的皇冠,甚至大国博弈间的重要砝码, 但是在这个连蚀刻尺寸都还以微米计算的时代,挑战纳米级别的技术,感觉跟神经病也差不太多。

  这个年代的光刻机技术, 因为过于粗犷的蚀刻尺寸, 其实难度并不高,甚至还有人在自家的地下室里就手工做出一台光刻机的。

  光刻说穿了也不难, 就是利用掩膜和曝光技术以及物理蚀刻, 将电路图形传递到单晶表面或介质层上,从而生产出芯片的技术。

  20世纪60年代,因为国防和航天业的飞速发展,米国对集成电路的要求越来越高, 大量资金和机会汇集过来,由此出现了第一批专业的芯片设备制造商。

  与此同时,欧洲也不甘落后,在荷兰埃因霍温的飞利浦实验室里, 年轻的实验员克洛斯特曼开发出了第一台6镜头重复曝光光刻机。

  时间进入七十年代,相位光栅和镜后侧光结合进行投影和对准,高自动化水平的气动控制等技术的应用,让飞利浦实验室的技术继续在全球保持领先,掩膜图案缩小到两英寸,圆晶直径三到四英寸,最细的线条只有两微米宽,误差在十分之一微米以内。

  而这个时候,在芯片技术上国内其实并没有被甩得太远。

  1972年,四川永州半导体成立,第二年就引进了当时最先进的3英寸圆晶生产线,领先台湾两年,韩国四年。而三星半导体78年才出现,至于台积电,更是直到87年才正式登上历史舞台。
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