黑科技进修手册 第101节（2 / 7）
杜颂：“已在创建。”
他领着自己小组成员低头忙碌。
“雷客，你调整一下光路结构。”
“好。”雷客示意助手打开opc（光学邻近矫正）软件，通过模型动态仿真结果计算查找表修正光与图案。
盛明安匍匐在桌案，设计市场需求的激光光源，就目前的技术发展而言，光刻机激光光源仍以激光等离子体为主。
驱动光源产生的碎屑数量，光谱纯度，每提高一个技术节点消耗的功率和产能……其实日前最先进的euv，其功率消耗大、产能低，再过五六年也未能完美解决这两个问题。
可盛明安不清楚。
他虽不愿用前世记忆盗窃他人成果提前制造出国产光刻机，可前世是他完美解决euv产能低的问题，因此习惯性顺手将这难题归入待解决列表之一。
以至于后来一举攻破该技术节点实现反超asml目标，实属意料之外。
***
15年5月份左右，国际半导体发生了一件大事。
asml官网对外发布突破光刻机量产瓶颈，正式对外售出可量产14nm极紫外光刻机！
此举瞬间激起千层浪，全球各界媒体报道不休，半导体发烧友热闹得跟过年一样纷纷发表讨论。国内贴吧、技术论坛和逼乎新帖不断，基本都是讨论asml这一举措将带来怎么的影响。
【光刻巨人：asml真正的崛起！】
国内科技网对asml的新闻标题被搬到国内电子发烧友论坛，论坛主搬来这标题就已经表明了他对未来全球半导体地位的划分认可。
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“雷客，你调整一下光路结构。”
“好。”雷客示意助手打开opc（光学邻近矫正）软件，通过模型动态仿真结果计算查找表修正光与图案。
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驱动光源产生的碎屑数量，光谱纯度，每提高一个技术节点消耗的功率和产能……其实日前最先进的euv，其功率消耗大、产能低，再过五六年也未能完美解决这两个问题。
可盛明安不清楚。
他虽不愿用前世记忆盗窃他人成果提前制造出国产光刻机，可前世是他完美解决euv产能低的问题，因此习惯性顺手将这难题归入待解决列表之一。
以至于后来一举攻破该技术节点实现反超asml目标，实属意料之外。
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